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Liu Sheng

姓名: LIU SHENG     
出生年月:  1963-3-14    
性别:   男      国籍:  美国     
城市:  MADISON HEIGHTE      专家类别:  Int.

民族: 职位:  DOCTOR
办公地址:
   办公电话:  313-577-3875     
传真:  313-577-8789 家庭地址:  31324 JOHN R. MADISON HEIGHTE MI 48071,USA,
家电话:  313-416-5325      传真:  
邮编:  MI 48071 E-Mail:  
领域:  tec

母语:  Chinese
工作语种:  Chinese    听   说   读   写 

其它语种: 
  ENGLISH

教育背景:  

1988---1992, STANFORD UNIVERSITY, PALO ALTO, CA 94

工作经历: 
 
WAYNE STATE UNIVERSITY. 5050 ANTHONY WAYNE DR. DETROTI, MI 48202, USA.

参考文献:  
1) BIMATERIAL INTERFACIAL CRACK GROWTH AS A FUNCTION OF MODE-MIXITY.1995. 2) A COMPOSITE CONTAINED EMBEDDED DAMPING POLYMERS WITH STRUCTURE, 1995. 3) A STUDY OF CARBON FILM/SILICON SUBSTRATE SYSTEMS SUBJECTED TO A MICROINDENTATION, 1995.

成果简介:  

刘博士曾回国讲学,对华态度友好。

备注:
  该专家的专业是固体力学(计算与实验)